概要ハワード・ラトニック米商務長官は、ASMLの経営陣に対し、極端紫外線（EUV）リソグラフィ装置が中国に流出した可能性があるとの懸念を伝えました。これは輸出規制に抵触する深刻な問題ですが、ASMLは中国にはそのような装置は存在しないとし、厳格な製品追跡と社内セキュリティ体制を強調して疑惑を否定しています。この対立の背景には、最先端半導体技術を巡る米中の地政学的緊張と、ASMLのレガシー技術の対中輸出をさらに制限しようとする動きがあります。
(出典：TechCrunch)
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